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英文字典中文字典相关资料:


  • Why are we going from DUV straight to EUV lithography?
    Maybe you want to ask a more specific question? What's the point of 50nm EUV if DUV can already achieve this as illustrated in my answer There is an energy density charge transfer explosive (deflagration to detonation) physics issue with the dielectric boundary of the pellicle interface
  • 14nm光刻机是怎么做出7nm和5nm芯片的? - 知乎
    DUV是目前比较成熟的方案,现阶段最高采用193nm波长的深紫外光源,被广泛应用在7nm(N7)以及7nm以前的工艺里。 伴随着工艺的继续微缩,DUV已经力不从心,所以现在无论是台积电还是三星都引入了极紫外光源的EUV光刻工艺。
  • 2台国产DUV光刻机的问世意味着什么? - 知乎
    另外,浸润式DUV,和干式DUV,其中最大的区别,就是在晶圆前面,加了一层介质水。 干式DUV采用的是空气作为光线传播的介质,浸润式DUV采用的是水来做光线传播的介质,而光线在水中产生折射,193nm波长的光源,折射后等效成13nm了,波长更短,于是分辨率更高了。
  • 英特尔始终徘徊14纳米制程,瓶颈在哪里? - 知乎
    DUV的波长是193nm,EUV是13nm。 在制程发展到90nm之前,人们就曾指出193nm深紫外光会发生严重的衍射现象而无法继续使用。 后期通过浸没式光刻、光学临近效应修正技术(OPC)等等分辨率增强技术 (Resolution Enhancement Teehnology,RET),可以把极限推进到30nm。
  • 国产DUV光刻机官宣了,那么国产EUV 光刻机进展如何了?
    (3)张江集团发布的28纳米光刻机信息,有一些被删除了,但仍有一些还能看到。 顺便说一下,2024年工信部发布的国产DUV光刻机的报道,可能是低调缩水版,28纳米分辨率的DUV光刻机早已经解决。 2023年12月19日,张江集团发布信息证实。
  • DUV 和 EUV 光刻机的区别在哪儿? - 知乎
    知乎,中文互联网高质量的问答社区和创作者聚集的原创内容平台,于 2011 年 1 月正式上线,以「让人们更好的分享知识、经验和见解,找到自己的解答」为品牌使命。知乎凭借认真、专业、友善的社区氛围、独特的产品机制以及结构化和易获得的优质内容,聚集了中文互联网科技、商业、影视
  • 不考虑良品率的话,DUV光刻机的制程极限是多少纳米? - 知乎
    这个不能不考虑良率啊,不然DUV不但能双重曝光,还能 四重曝光,还能十六重曝光,还能1024重曝光 就好比不考虑概率的话,我也可以说自己会穿墙术。
  • 「EUV (极紫外光刻)」是一项什么样的技术? - 知乎
    图 2019年Joseph Braat因为其在衍射极限的光学成像领域重要贡献获得Holst Memorial Lecture Award 邵: 您对EUV光刻或其他光学光刻技术的未来发展有何看法? Joseph: 在当前的13 5 nm的光刻波长下,蔡司的非球面EUV投影系统可以实现最高0 55的数值孔径。而在较短的波长上,比如6 nm,制造光学系统在理论上可能的
  • 什么是E-Beam与DUV光刻技术? - 知乎
    我主要是想了解两种工艺在应用于光刻中的区别。 简单来说E-beam做光刻时,最小特征尺寸可以控制在20nm左右的精度,甚至更小。 而DUV光刻技术光源波长是193nm和248nm,能够加工的最小特征尺寸只能达到90nm节点。 下文是更详细的内容:
  • 上海微电子能在2025年前攻克7nm光刻机吗? - 知乎
    一张嘴就是槽点。 根本不存在所谓的7nm光刻机,直接把光刻机说成是7nm、14nm、28nm都是有问题的。 光刻机应该是按照光源波长来划分: 用436nm光源的是g-line光刻机, 用365nm光源的是i-line光刻机,上海微电子的 SSX600扫描式光刻机就是这个类型, 用248nm光源的是KrF光刻机, 用193nm深紫外光光源的是DUV光刻





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